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技術文章
在半導體晶圓加工工藝中，精密拋光設備用于晶圓全局平坦化處理，是芯片制程核心設備之一。CMP拋光機依靠耗材與精密結構協同完成拋光作業，日常養護直接影響加工品質。落實規范化養護流程，可有效保障CMP拋光機的運行穩定性，延長設備與耗材使用周期。1、拋光平臺清潔養護拋光平臺長期作業易殘留拋光液顆粒與晶圓碎屑，堆積后會影響盤面平整度。每次加工結束后使用專用清潔液擦拭盤面，沖洗殘留漿料，保持盤面潔凈平整，避免...
查看更多2016-05-05
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